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鎳蝕刻劑 TFB
NICKEL ETCHANT TFB
鎳蝕刻劑 TFB
NICKEL ETCHANT TFB
本品是適用于蒸發鎳薄膜上的標準鎳蝕刻劑。這種蝕刻劑與陽性和陰性光刻膠都有良好的匹配性。它用于氧化鋁基板上,是金、鎳、鎳鉻或鉻電阻的理想蝕刻劑。
Transene薄膜蝕刻劑(鎳TFB和鎳TFG)是高純硝酸鹽基蝕刻劑用于蝕刻蒸發或電鍍鎳膜,鎳蝕刻劑與陰、陽性光刻膠材料都具有良好匹配性。建議使用的光刻膠為AZ-111,AZ-1350OH和KMER。鎳蝕劑用于蝕刻金、鎳、鎳鉻膜以制作電阻板。鎳蝕刻劑TFG與銅相匹配。
特點:
·廉價經濟
·與陽性、陰性光刻膠都相匹配
·線條輪廓清晰
·蝕刻速率均勻
性質:
蝕刻劑 | TFB |
操作溫度 | 25℃ |
蝕刻速率 | 30 Å /秒 |
鎳沉積法 | 蒸發/陰極濺鍍 |
蝕刻能力 | 270g/加侖 |
典型膜厚 | 1500 Å /5-50微英寸 |
罐 | 玻璃 |
應用:
鎳蝕刻劑是浸泡型產品,購來馬上可用,蝕刻速率通過操作溫度加以控制。鎳通常在氧化鋁基板上夾于金和鎳鉻或鉻之間,對蒸發法或化學鍍制的鎳都適用。實際蝕刻時要根據膜厚和操作溫度控制蝕刻時間,不過對于蒸發法鎳一般是1分鐘,而對于化學鍍鎳是4分鐘。蝕刻過后應用水沖洗。